TUTCRIS - Tampereen teknillinen yliopisto

TUTCRIS

Hanna Hulkkonen

  1. Julkaistu

    Block Copolymer Patterning for Creating Porous Silicon Thin Films with Tunable Refractive Indices

    Hulkkonen, H. H., Salminen, T. & Niemi, T., 14 helmikuuta 2017, julkaisussa : ACS Applied Materials & Interfaces. 9, 37, s. 31260-31265

    Tutkimustuotosvertaisarvioitu

  2. Julkaistu
  3. Julkaistu

    Gold Metasurfaces for Light Absorption Enhancement via Block Copolymer Lithography

    Hulkkonen, H. & Niemi, T., 18 kesäkuuta 2018.

    Tutkimustuotos: Konferenssiesitys, posteri tai abstrakti

  4. Julkaistu

    Perfect Optical Absorbers Based on Plasmon Resonances in Subwavelength-Patterned Gold Thin Films

    Hulkkonen, H., Sah, A. & Niemi, T., 20 marraskuuta 2018.

    Tutkimustuotos: Konferenssiesitys, posteri tai abstrakti

  5. Julkaistu

    All-Metal Broadband Optical Absorbers Based on Block Copolymer Nanolithography

    Hulkkonen, H., Sah, A. & Niemi, T., 13 marraskuuta 2018, julkaisussa : ACS Applied Materials & Interfaces. 10, 49, s. 42941-42947 7 Sivumäärä

    Tutkimustuotosvertaisarvioitu

  6. Julkaistu

    Automated solvent vapor annealing with nanometer scale control of film swelling for block copolymer thin films

    Hulkkonen, H., Salminen, T. & Niemi, T., 13 syyskuuta 2019, julkaisussa : Soft Matter. 15, 39, s. 7909-7917

    Tutkimustuotosvertaisarvioitu

  7. Julkaistu

    Morphology evolution of PS-b-PDMS block copolymer and its hierarchical directed self-assembly on block copolymer templates

    Rasappa, S., Schulte, L., Borah, D., Hulkkonen, H., Ndoni, S., Salminen, T., Senthamaraikanan, R., Morris, M. A. & Niemi, T., 15 toukokuuta 2018, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 192, s. 1-7 7 Sivumäärä

    Tutkimustuotosvertaisarvioitu

  8. Julkaistu

    High molecular weight block copolymer lithography for nanofabrication of hard mask and photonic nanostructures

    Rasappa, S., Hulkkonen, H., Schulte, L., Ndoni, S., Reuna, J., Salminen, T. & Niemi, T., 2019, julkaisussa : Journal of Colloid and Interface Science. 534, 15, s. 420-429 10 Sivumäärä

    Tutkimustuotosvertaisarvioitu

ID: 4847909