TUTCRIS - Tampereen teknillinen yliopisto

TUTCRIS

Atomic layer deposited iridium oxide thin film as microelectrode coating in stem cell applications

Tutkimustuotosvertaisarvioitu

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Artikkeli041501
Sivut1-5
Sivumäärä5
JulkaisuJournal of Vacuum Science & Technology A
Vuosikerta30
Numero4
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2012
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli

Julkaisufoorumi-taso