Bi incorporation and the role of surface droplets in GaAsBi epitaxy
Tutkimustuotos: Konferenssiesitys, posteri tai abstrakti ›
Yksityiskohdat
Alkuperäiskieli | Englanti |
---|---|
Tila | Julkaistu - 16 heinäkuuta 2018 |
OKM-julkaisutyyppi | Ei OKM-tyyppiä |
Tapahtuma | 9th International Workshop on Bismuth-Containing Semiconductors - Kyoto, Japani Kesto: 15 heinäkuuta 2018 → 18 heinäkuuta 2018 |
Conference
Conference | 9th International Workshop on Bismuth-Containing Semiconductors |
---|---|
Maa | Japani |
Kaupunki | Kyoto |
Ajanjakso | 15/07/18 → 18/07/18 |