TUTCRIS - Tampereen teknillinen yliopisto

TUTCRIS

Block copolymer lithography: Feature size control and extension by an over-etch technique

Tutkimustuotosvertaisarvioitu

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut318-323
Sivumäärä6
JulkaisuThin Solid Films
Vuosikerta522
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 1 marraskuuta 2012
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli

Tiivistelmä

Block copolymer lithography based on block copolymer (BCP) self-assembly can be used to develop soft mask nanoscale templates for subsequent pattern transfer to generate substrate features. Self-assembly of lamellar polystyrene-b-polymethylmethacrylate BCP of varying molecular weights to generate silicon nanoscale features is reported here. It has also been demonstrated that the feature size can be controlled by a plasma over-etch process and discussed.