Method for measuring the active KOH concentration in a KOH etching process
Tutkimustuotos: Patentti ›
Yksityiskohdat
| Alkuperäiskieli | Englanti |
|---|---|
| Patenttinumero | US8628678 B2 |
| IPC | G01N21/42, C03C25/68, C03C15/00 |
| Prioriteetti päiväys | 11/10/06 |
| Tila | Julkaistu - 14 tammikuuta 2014 |
| Julkaistu ulkoisesti | Kyllä |
| OKM-julkaisutyyppi | H1 Myönnetty patentti |