TUTCRIS - Tampereen teknillinen yliopisto

TUTCRIS

Novel method for chemical vapor deposition and atomic layer epitaxy using radical chemistry

Tutkimustuotosvertaisarvioitu

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut212-218
JulkaisuThin Solid Films
Vuosikerta225
Numero1-2
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 1993
Julkaistu ulkoisestiKyllä
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli

Julkaisufoorumi-taso