TUTCRIS - Tampereen teknillinen yliopisto

TUTCRIS

Optical interference lithography using azobenzene-functionalized polymers for micro-and nanopatterning of silicon

Tutkimustuotosvertaisarvioitu

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut4174-4177
Sivumäärä4
JulkaisuAdvanced Materials
Vuosikerta23
Numero36
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 22 syyskuuta 2011
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli

Tiivistelmä

Light-induced mass transport in azobenzene-functionalized polymers is exploited in optical interference lithography to fabricate large-area, periodic 1D and 2D silicon nanostructures. The demonstrated technique is a fast, reliable, and cost-effective alternative to conventional photoresist-based methods of nano-and microfabrication. Potential applications of the technique range from optics and photonics to functional materials and coatings.