Optical interference lithography using azobenzene-functionalized polymers for micro-and nanopatterning of silicon
Tutkimustuotos › › vertaisarvioitu
Yksityiskohdat
| Alkuperäiskieli | Englanti |
|---|---|
| Sivut | 4174-4177 |
| Sivumäärä | 4 |
| Julkaisu | Advanced Materials |
| Vuosikerta | 23 |
| Numero | 36 |
| DOI - pysyväislinkit | |
| Tila | Julkaistu - 22 syyskuuta 2011 |
| OKM-julkaisutyyppi | A1 Alkuperäisartikkeli |
Tiivistelmä
Light-induced mass transport in azobenzene-functionalized polymers is exploited in optical interference lithography to fabricate large-area, periodic 1D and 2D silicon nanostructures. The demonstrated technique is a fast, reliable, and cost-effective alternative to conventional photoresist-based methods of nano-and microfabrication. Potential applications of the technique range from optics and photonics to functional materials and coatings.