TUTCRIS - Tampereen teknillinen yliopisto

TUTCRIS

Reactive Magnetron Sputtering of Zirconium Carbide Films Using Ar/CH4 Gas Mixtures

Tutkimustuotosvertaisarvioitu

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut166-170
JulkaisuSurface and Coatings Technology
Vuosikerta59
TilaJulkaistu - 1993
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli

Julkaisufoorumi-taso