Reactive Magnetron Sputtering of Zirconium Carbide Films Using Ar/CH4 Gas Mixtures
Tutkimustuotos › › vertaisarvioitu
Yksityiskohdat
| Alkuperäiskieli | Englanti |
|---|---|
| Sivut | 166-170 |
| Julkaisu | Surface and Coatings Technology |
| Vuosikerta | 59 |
| Tila | Julkaistu - 1993 |
| OKM-julkaisutyyppi | A1 Alkuperäisartikkeli |