TUTCRIS - Tampereen teknillinen yliopisto

TUTCRIS

Stoichiometry and Impurities in Sputtered Alumina Films on Copper

Tutkimustuotosvertaisarvioitu

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut297-311
JulkaisuThin Solid Films
Vuosikerta204
TilaJulkaistu - 1991
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli

Julkaisufoorumi-taso