TUTCRIS - Tampereen teknillinen yliopisto

TUTCRIS

Utilisation of continuous atomic layer deposition process for barrier enhancement of extrusion-coated paper

Tutkimustuotosvertaisarvioitu

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut3916-3922
JulkaisuSurface and Coatings Technology
Vuosikerta205
Numero15
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2011
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli

Julkaisufoorumi-taso